குறைக்கடத்தி லித்தோகிராஃபி அமைப்புகளில் உலகளாவிய முன்னணி நிறுவனமான ASML, சமீபத்தில் ஒரு புதிய தீவிர புற ஊதா (EUV) லித்தோகிராஃபி தொழில்நுட்பத்தை உருவாக்குவதாக அறிவித்துள்ளது. இந்த தொழில்நுட்பம் குறைக்கடத்தி உற்பத்தியின் துல்லியத்தை கணிசமாக மேம்படுத்தும் என்று எதிர்பார்க்கப்படுகிறது, இது சிறிய அம்சங்கள் மற்றும் அதிக செயல்திறன் கொண்ட சில்லுகளின் உற்பத்தியை செயல்படுத்துகிறது.
புதிய EUV லித்தோகிராஃபி அமைப்பு 1.5 நானோமீட்டர்கள் வரை தெளிவுத்திறனை அடைய முடியும், இது தற்போதைய தலைமுறை லித்தோகிராஃபி கருவிகளை விட கணிசமான முன்னேற்றமாகும். இந்த மேம்படுத்தப்பட்ட துல்லியம் குறைக்கடத்தி பேக்கேஜிங் பொருட்களில் ஆழமான தாக்கத்தை ஏற்படுத்தும். சில்லுகள் சிறியதாகவும் சிக்கலானதாகவும் மாறும்போது, இந்த சிறிய கூறுகளின் பாதுகாப்பான போக்குவரத்து மற்றும் சேமிப்பை உறுதி செய்வதற்காக உயர்-துல்லிய கேரியர் டேப்கள், கவர் டேப்கள் மற்றும் ரீல்களுக்கான தேவை அதிகரிக்கும்.
குறைக்கடத்தி துறையில் ஏற்படும் இந்த தொழில்நுட்ப முன்னேற்றங்களை நெருக்கமாகப் பின்பற்ற எங்கள் நிறுவனம் உறுதிபூண்டுள்ளது. ASML இன் புதிய லித்தோகிராஃபி தொழில்நுட்பத்தால் கொண்டு வரப்பட்ட புதிய தேவைகளைப் பூர்த்தி செய்யக்கூடிய பேக்கேஜிங் பொருட்களை உருவாக்குவதற்கான ஆராய்ச்சி மற்றும் மேம்பாட்டில் நாங்கள் தொடர்ந்து முதலீடு செய்வோம், இது குறைக்கடத்தி உற்பத்தி செயல்முறைக்கு நம்பகமான ஆதரவை வழங்குகிறது.
இடுகை நேரம்: பிப்ரவரி-17-2025