குறைக்கடத்தி லித்தோகிராபி அமைப்புகளில் உலகளாவிய முன்னணி நிறுவனமான ASML, சமீபத்தில் ஒரு புதிய தீவிர புற ஊதா (EUV) லித்தோகிராபி தொழில்நுட்பத்தை உருவாக்கியுள்ளதாக அறிவித்துள்ளது. இந்தத் தொழில்நுட்பம் குறைக்கடத்தி உற்பத்தியின் துல்லியத்தை கணிசமாக மேம்படுத்தி, சிறிய அம்சங்கள் மற்றும் உயர் செயல்திறன் கொண்ட சில்லுகளை உற்பத்தி செய்ய வழிவகுக்கும் என்று எதிர்பார்க்கப்படுகிறது.
புதிய EUV லித்தோகிராஃபி அமைப்பானது 1.5 நானோமீட்டர் வரையிலான பிரிதிறனை அடையக்கூடியது. இது தற்போதைய தலைமுறை லித்தோகிராஃபி கருவிகளை விட ஒரு குறிப்பிடத்தக்க முன்னேற்றமாகும். இந்த மேம்படுத்தப்பட்ட துல்லியம், குறைக்கடத்தி பேக்கேஜிங் பொருட்களில் ஒரு பெரும் தாக்கத்தை ஏற்படுத்தும். சில்லுகள் சிறியதாகவும் மேலும் சிக்கலானதாகவும் மாறும்போது, இந்த நுண்ணிய பாகங்களின் பாதுகாப்பான போக்குவரத்து மற்றும் சேமிப்பை உறுதி செய்வதற்காக, உயர்-துல்லியமான கேரியர் டேப்புகள், கவர் டேப்புகள் மற்றும் ரீல்களுக்கான தேவை அதிகரிக்கும்.
குறைக்கடத்தித் துறையில் ஏற்படும் இந்தத் தொழில்நுட்ப முன்னேற்றங்களை எங்கள் நிறுவனம் உன்னிப்பாகக் கண்காணிப்பதில் உறுதியாக உள்ளது. ASML-இன் புதிய லித்தோகிராபி தொழில்நுட்பத்தால் ஏற்படும் புதிய தேவைகளைப் பூர்த்திசெய்து, குறைக்கடத்தி உற்பத்திச் செயல்முறைக்கு நம்பகமான ஆதரவை வழங்கக்கூடிய பேக்கேஜிங் பொருட்களை உருவாக்குவதற்காக, நாங்கள் ஆராய்ச்சி மற்றும் மேம்பாட்டில் தொடர்ந்து முதலீடு செய்வோம்.
பதிவிட்ட நேரம்: பிப்ரவரி 17, 2025